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MPCVD金刚石薄膜微波功率和沉积压力匹配性研究

张帅 李成明 安康 邵思武 黄亚博 杨志亮 陈良贤 魏俊俊 刘金龙 郑宇亭

人工晶体学报2022,Vol.51Issue(5):910-919,10.
人工晶体学报2022,Vol.51Issue(5):910-919,10.

MPCVD金刚石薄膜微波功率和沉积压力匹配性研究

Microwave Power and Deposition Pressure Matching of MPCVD Diamond Films

张帅 1李成明 1安康 2邵思武 1黄亚博 2杨志亮 1陈良贤 1魏俊俊 1刘金龙 1郑宇亭1

作者信息

  • 1. 北京科技大学新材料技术研究院,北京 100083
  • 2. 北京科技大学顺德研究生院,佛山 528399
  • 折叠

摘要

关键词

金刚石薄膜/MPCVD/沉积压力/微波功率/均匀性/数值模拟

分类

化学化工

引用本文复制引用

张帅,李成明,安康,邵思武,黄亚博,杨志亮,陈良贤,魏俊俊,刘金龙,郑宇亭..MPCVD金刚石薄膜微波功率和沉积压力匹配性研究[J].人工晶体学报,2022,51(5):910-919,10.

基金项目

国家磁约束核聚变能发展研究专项资助(2019YFE100200) (2019YFE100200)

国家自然科学基金(52102034) (52102034)

中央高校基本科研业务费(FRF-MP-20-48) (FRF-MP-20-48)

北京科技大学顺德研究生院博士后研究经费(2020BH015) (2020BH015)

人工晶体学报

OA北大核心CSTPCD

1000-985X

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