| 注册
首页|期刊导航|人工晶体学报|Ti、V、Ni、Mo对CVD金刚石涂层形核影响

Ti、V、Ni、Mo对CVD金刚石涂层形核影响

简小刚 彭薪颖 杨天 胡吉博 尹明睿

人工晶体学报2022,Vol.51Issue(5):933-940,8.
人工晶体学报2022,Vol.51Issue(5):933-940,8.

Ti、V、Ni、Mo对CVD金刚石涂层形核影响

Effect of Ti, V, Ni and Mo on Nucleation of CVD Diamond Coating

简小刚 1彭薪颖 1杨天 1胡吉博 1尹明睿1

作者信息

  • 1. 同济大学机械与能源工程学院,上海 201804
  • 折叠

摘要

关键词

金刚石涂层/过渡金属/吸附/第一性原理计算/形核密度/化学气相沉积

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

简小刚,彭薪颖,杨天,胡吉博,尹明睿..Ti、V、Ni、Mo对CVD金刚石涂层形核影响[J].人工晶体学报,2022,51(5):933-940,8.

基金项目

国家自然科学基金(51275358) (51275358)

中央高校专项基金(20140750) (20140750)

人工晶体学报

OA北大核心CSTPCD

1000-985X

访问量4
|
下载量0
段落导航相关论文