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氮钝化对SiC MOS电容栅介质可靠性的影响

白志强 张艺蒙 汤晓燕 宋庆文 张玉明 戴小平 高秀秀 齐放

西安电子科技大学学报2022,Vol.49Issue(3):P.206-212,7.
西安电子科技大学学报2022,Vol.49Issue(3):P.206-212,7.DOI:10.19665/j.issn1001-2400.2022.03.023

氮钝化对SiC MOS电容栅介质可靠性的影响

白志强 1张艺蒙 2汤晓燕 1宋庆文 2张玉明 1戴小平 3高秀秀 3齐放3

作者信息

  • 1. 西安电子科技大学微电子学院,陕西西安710071
  • 2. 西安电子科技大学微电子学院,陕西西安710071 西安电子科技大学芜湖研究院,安徽芜湖241000
  • 3. 湖南国芯半导体科技有限公司,湖南株洲412000
  • 折叠

摘要

关键词

碳化硅/MOS电容/界面态/退火/栅介质

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

白志强,张艺蒙,汤晓燕,宋庆文,张玉明,戴小平,高秀秀,齐放..氮钝化对SiC MOS电容栅介质可靠性的影响[J].西安电子科技大学学报,2022,49(3):P.206-212,7.

基金项目

“功率半导体国家制造业创新中心建设”项目(2018XK2202) (2018XK2202)

科学挑战专题项目(TZ2018003) (TZ2018003)

陕西省重点研发项目(2018ZDL-GY01-03,2020ZDLGY03-07,2019GY-004) (2018ZDL-GY01-03,2020ZDLGY03-07,2019GY-004)

芜湖-西电产学研专项资金(XWYCXY-012020002)。 (XWYCXY-012020002)

西安电子科技大学学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-2400

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