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不同功率O2或N2等离子处理TiNx阳极表面对硅基OLED发光性能的影响

李祥 刘海 魏斌 张建华

发光学报2022,Vol.43Issue(6):934-943,10.
发光学报2022,Vol.43Issue(6):934-943,10.DOI:10.37188/CJL.20220046

不同功率O2或N2等离子处理TiNx阳极表面对硅基OLED发光性能的影响

Influence of Different O2 or N2 Plasma Powers to TiNx Anode Surface on OLEDs-on Silicon Performance

李祥 1刘海 2魏斌 2张建华2

作者信息

  • 1. 上海大学 材料科学与工程学院,上海 200444
  • 2. 上海大学 新型显示技术及应用集成教育部重点实验室,上海 200072
  • 折叠

摘要

关键词

等离子处理/硅基OLED/氮化钛/载流子浓度及迁移率

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

李祥,刘海,魏斌,张建华..不同功率O2或N2等离子处理TiNx阳极表面对硅基OLED发光性能的影响[J].发光学报,2022,43(6):934-943,10.

基金项目

国家自然科学基金(51725505) (51725505)

上海市科委项目(18JC1410402,15JC1402000) (18JC1410402,15JC1402000)

新型显示技术及应用集成教育部重点实验室开放基金资助项目 ()

发光学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-7032

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