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羟基化结合硅烷偶联剂改性对光固化Si3N4膏料性能的影响

吴佩遥 鲍崇高 李世佳 董文彩 马海强 宋索成

硅酸盐通报2022,Vol.41Issue(6):2134-2142,9.
硅酸盐通报2022,Vol.41Issue(6):2134-2142,9.

羟基化结合硅烷偶联剂改性对光固化Si3N4膏料性能的影响

Effects of Hydroxylation and Silane Coupling Agent Modification on Properties of Stereolithography Si3 N4 Paste

吴佩遥 1鲍崇高 1李世佳 1董文彩 1马海强 1宋索成1

作者信息

  • 1. 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安 710049
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摘要

关键词

立体光固化/Si3N4陶瓷/硅烷偶联剂/羟基化/表面改性/流变特性/固化深度

分类

化学化工

引用本文复制引用

吴佩遥,鲍崇高,李世佳,董文彩,马海强,宋索成..羟基化结合硅烷偶联剂改性对光固化Si3N4膏料性能的影响[J].硅酸盐通报,2022,41(6):2134-2142,9.

基金项目

国家自然科学基金(52075425) (52075425)

硅酸盐通报

OA北大核心CSTPCD

1001-1625

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