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双层微纳结构增强电磁屏蔽的机理分析与验证

廖敦微 郑月军 崔浩 寸铁 付云起

光学精密工程2022，Vol.30Issue(11)：1310-1316,7.
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光学精密工程2022，Vol.30Issue(11)：1310-1316,7.DOI:10.37188/OPE.20223000.0085

双层微纳结构增强电磁屏蔽的机理分析与验证

Mechanism analysis and verification of double-layer micro-nano structure to enhance electromagnetic shielding

廖敦微 1郑月军 1崔浩 1寸铁 2付云起3

作者信息

  • 1. 国防科技大学电子科学学院,湖南长沙410073
  • 2. 沈阳飞机设计研究所,辽宁沈阳110000
  • 3. 中为联合创新(平潭)工程研究有限公司,福建福州350000
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摘要

关键词

微纳结构/电磁屏蔽/双层/透光率

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

廖敦微,郑月军,崔浩,寸铁,付云起..双层微纳结构增强电磁屏蔽的机理分析与验证[J].光学精密工程,2022,30(11):1310-1316,7.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(No.61901493) （No.61901493）

光学精密工程

OA北大核心CSTPCD

1004-924X

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