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基于MCNP的X光机模拟及足跟效应修正

严永强 吴金杰 金尚忠 赵瑞

计量学报2022，Vol.43Issue(6)：812-818,7.
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计量学报2022，Vol.43Issue(6)：812-818,7.DOI:10.3969/j.issn.1000-1158.2022.06.16

基于MCNP的X光机模拟及足跟效应修正

Simulation of X-ray Machine and Correction of Heel Effect Based on MCNP

严永强 1吴金杰 2金尚忠 2赵瑞1

作者信息

  • 1. 中国计量大学光学与电子科技学院,浙江杭州310018
  • 2. 中国计量科学研究院,北京100029
  • 折叠

摘要

关键词

计量学/X光机/足跟效应/蒙特卡罗模拟

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

严永强,吴金杰,金尚忠,赵瑞..基于MCNP的X光机模拟及足跟效应修正[J].计量学报,2022,43(6):812-818,7.

基金项目

国家重点研发计划(2017YFF0205101) （2017YFF0205101）

计量学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-1158

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