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高负偏光照稳定性的溶液法像素级IZTO TFT

荆斌 徐萌 彭聪 陈龙龙 张建华 李喜峰

物理学报2022，Vol.71Issue(13)：P.404-411,8.
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物理学报2022，Vol.71Issue(13)：P.404-411,8.DOI:10.7498/aps.71.20220154

高负偏光照稳定性的溶液法像素级IZTO TFT

荆斌 1徐萌 2彭聪 2陈龙龙 2张建华 2李喜峰2

作者信息

  • 1. 上海大学材料科学与工程学院,上海200072 上海大学,新型显示技术及应用集成教育部重点实验室,上海200072
  • 2. 上海大学,新型显示技术及应用集成教育部重点实验室,上海200072
  • 折叠

摘要

关键词

溶液法/TFT像素阵列/N_(2)O等离子处理/光照负偏压稳定性

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

荆斌,徐萌,彭聪,陈龙龙,张建华,李喜峰..高负偏光照稳定性的溶液法像素级IZTO TFT[J].物理学报,2022,71(13):P.404-411,8.

基金项目

国家自然科学基金(批准号:62174105,61674101) （批准号:62174105,61674101）

上海市学术/技术研究负责人计划(批准号:18XD1424400) （批准号:18XD1424400）

上海市教育发展基金会和上海市教育委员会(批准号:18SG38)资助的课题。 （批准号:18SG38）

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-3290

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