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强流氘氚中子源用TiD_(2)靶膜制备技术研究

梁斌斌巴伟伟王子默彭怡刚高翔刘超

原子能科学技术2022，Vol.56Issue(S01)：P.265-271,7.

原子能科学技术2022，Vol.56Issue(S01)：P.265-271,7.DOI:10.7538/yzk.2022.youxian.0069

梁斌斌 ¹巴伟伟 ¹王子默 ¹彭怡刚 ¹高翔 ¹刘超¹

作者信息

氘/氚中子源/靶膜/TiD_(2)/磁控溅射镀膜

数理科学

梁斌斌,巴伟伟,王子默,彭怡刚,高翔,刘超..强流氘氚中子源用TiD_(2)靶膜制备技术研究[J].原子能科学技术,2022,56(S01):P.265-271,7.

中核集团“青年英才”项目（）

OA北大核心CSCDCSTPCD

ISSN：1000-6931

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