人工晶体学报2022，Vol.51Issue(7)：1163-1168,6.
雾化辅助化学气相沉积法氧化镓薄膜生长研究
Gallium Oxide Thin Film Prepared by Atomization-Assisted Chemical Vapor Deposition
摘要
关键词
Ga2O3/薄膜/雾化辅助化学气相沉积/沉积温度/压差/单晶/半导体分类
化学化工引用本文复制引用
罗月婷,肖黎,陈远豪,梁昌兴,龚恒翔..雾化辅助化学气相沉积法氧化镓薄膜生长研究[J].人工晶体学报,2022,51(7):1163-1168,6.基金项目
重庆市自然科学基金博士后科学基金(cstc2021jcyj-bshX0219) （cstc2021jcyj-bshX0219）
重庆理工大学本科教育教学改革研究项目(2021YB46) （2021YB46）
