金刚石与磨料磨具工程2022，Vol.42Issue(4)：428-432,5.DOI:10.13394/j.cnki.jgszz.2021.0117
均一亚微米级氧化铈抛光粉的制备
Preparation of homogeneous sub-micron cerium oxide polishing powder
戴蒙姣 1陈国美 2倪自丰 1章平 1钱善华 1卞达1
作者信息
- 1. 江南大学 机械工程学院, 江苏 无锡 214122
- 2. 无锡商业职业技术学院 机电技术学院, 江苏 无锡 214153
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摘要
关键词
CeO2/均一/溶剂热法/化学机械抛光分类
矿业与冶金引用本文复制引用
戴蒙姣,陈国美,倪自丰,章平,钱善华,卞达..均一亚微米级氧化铈抛光粉的制备[J].金刚石与磨料磨具工程,2022,42(4):428-432,5.
