红外技术2022，Vol.44Issue(8)：828-836,9.
异质衬底外延碲镉汞薄膜位错抑制技术进展
Research Progress of Dislocation Density Reduction in MBE HgCdTe on Alternative Substrates
摘要
关键词
碲镉汞/异质衬底/位错抑制/循环退火/位错阻挡/台面位错吸除分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
杨晋,李艳辉,杨春章,覃钢,李俊斌,雷文,孔金丞,赵俊,姬荣斌..异质衬底外延碲镉汞薄膜位错抑制技术进展[J].红外技术,2022,44(8):828-836,9.基金项目
核高基重大专项项目. （）
