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氧化铟锡(ITO)薄膜溅射生长及光电性能调控

雷沛 束小文 刘培元 罗俊杰 李佳明 郝常山 纪建超 张旋

表面技术2022,Vol.51Issue(8):100-106,7.
表面技术2022,Vol.51Issue(8):100-106,7.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2022.08.008

氧化铟锡(ITO)薄膜溅射生长及光电性能调控

Growth and the Tunable Optical and Electrical of Sputtered ITO Films

雷沛 1束小文 2刘培元 3罗俊杰 3李佳明 1郝常山 2纪建超 1张旋2

作者信息

  • 1. 北京航空材料研究院股份有限公司,北京 100095
  • 2. 北京市先进运载系统结构透明件工程技术研究中心,北京 100095
  • 3. 陆军装备部驻北京地区航空军事代表室,北京 100039
  • 折叠

摘要

关键词

氧化铟锡薄膜/磁控溅射法/薄膜结构/热处理/光电性能

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

雷沛,束小文,刘培元,罗俊杰,李佳明,郝常山,纪建超,张旋..氧化铟锡(ITO)薄膜溅射生长及光电性能调控[J].表面技术,2022,51(8):100-106,7.

表面技术

OA北大核心

1001-3660

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