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高真空磁控溅射温度对Ga2O3微观结构及光学性能的影响

赵晶晶 刘丽华 秦彬皓 王海燕 杨为家

发光学报2022,Vol.43Issue(8):1236-1243,8.
发光学报2022,Vol.43Issue(8):1236-1243,8.DOI:10.37188/CJL.20220131

高真空磁控溅射温度对Ga2O3微观结构及光学性能的影响

Effect of Sputtering Temperature on Microstructural and Optical Properties of Gallium Oxide Deposited by High-vacuum Magnetron Sputtering

赵晶晶 1刘丽华 2秦彬皓 1王海燕 2杨为家2

作者信息

  • 1. 五邑大学 应用物理与材料学院,广东 江门 529020
  • 2. 广东省科学院 中乌焊接研究所,广东 广州 510651
  • 折叠

摘要

关键词

射频磁控溅射/Ga2O3/结构性能/光学性能

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

赵晶晶,刘丽华,秦彬皓,王海燕,杨为家..高真空磁控溅射温度对Ga2O3微观结构及光学性能的影响[J].发光学报,2022,43(8):1236-1243,8.

基金项目

广东省自然科学基金面上项目(2022A1515010067) (2022A1515010067)

广州市基础与应用基础研究项目(202102020169) (202102020169)

国家重点研发计划(2020YFE0205300)资助项目 (2020YFE0205300)

发光学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-7032

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