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高均匀性的铜柱凸块电镀(英文)

谭柏照 梁剑伦 赖子亮 罗继业

电化学2022,Vol.28Issue(7):P.94-103,10.
电化学2022,Vol.28Issue(7):P.94-103,10.DOI:10.13208/j.electrochem.2213004

高均匀性的铜柱凸块电镀(英文)

谭柏照 1梁剑伦 2赖子亮 1罗继业1

作者信息

  • 1. 广东工业大学轻工化工学院,广东广州510006
  • 2. 广东工业大学轻工化工学院,广东广州510006 季华实验室,广东佛山528200
  • 折叠

摘要

关键词

铜柱凸块/电化学沉积/均匀性/添加剂/整平剂

分类

化学化工

引用本文复制引用

谭柏照,梁剑伦,赖子亮,罗继业..高均匀性的铜柱凸块电镀(英文)[J].电化学,2022,28(7):P.94-103,10.

基金项目

the National Natural Science Foundation of China (Grant No. 22178071) (Grant No. 22178071)

Guangzhou Basic and Applied Basic Research Foundation (Grant No. 202102021029) for financially supporting this research。 (Grant No. 202102021029)

电化学

OA北大核心CSTPCD

1006-3471

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