人工晶体学报2022，Vol.51Issue(8)：1353-1360,8.
射频磁控溅射氧气流量对制备的Ga2O3:Cr薄膜光致发光性能的影响
Influence of Oxygen Flow Rate on the Photoluminescence Properties of Ga2 O3:Cr Thin Films Prepared by RF Magnetron Sputtering
摘要
关键词
Ga2O3:Cr薄膜/射频磁控溅射/蓝宝石基底/氧气流量/退火/光学性能/结晶质量分类
数理科学引用本文复制引用
赵鑫,刘粉红,张晓东,刘昌龙..射频磁控溅射氧气流量对制备的Ga2O3:Cr薄膜光致发光性能的影响[J].人工晶体学报,2022,51(8):1353-1360,8.基金项目
国家自然科学基金(11675120,11535008) （11675120,11535008）
