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射频溅射功率对Mn-Co-Ni-O薄膜结构与性能的影响

刘丽华 赵晶晶 秦彬皓 杨为家 王海燕

人工晶体学报2022,Vol.51Issue(8):1361-1369,1377,10.
人工晶体学报2022,Vol.51Issue(8):1361-1369,1377,10.

射频溅射功率对Mn-Co-Ni-O薄膜结构与性能的影响

Effect of Radio Frequency Sputtering Power on the Structure and Properties of Mn-Co-Ni-O Thin Films

刘丽华 1赵晶晶 2秦彬皓 1杨为家 2王海燕2

作者信息

  • 1. 五邑大学应用物理与材料学院,江门 529020
  • 2. 广东省科学院中乌焊接研究所,广州 510651
  • 折叠

摘要

关键词

锰钴镍氧薄膜/射频磁控溅射/后退火/溅射功率/结构性能/光学性能

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

刘丽华,赵晶晶,秦彬皓,杨为家,王海燕..射频溅射功率对Mn-Co-Ni-O薄膜结构与性能的影响[J].人工晶体学报,2022,51(8):1361-1369,1377,10.

基金项目

广东省自然科学基金(2022A1515010067) (2022A1515010067)

广州市基础与应用基础研究(202102020169) (202102020169)

人工晶体学报

OA北大核心CSTPCD

1000-985X

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