| 注册
首页|期刊导航|表面技术|1064nm激光高反膜残余应力及其形变分析

1064nm激光高反膜残余应力及其形变分析

李阳 徐均琪 苏俊宏 袁松松 刘祺 刘政

表面技术2022,Vol.51Issue(9):311-318,334,9.
表面技术2022,Vol.51Issue(9):311-318,334,9.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2022.09.000

1064nm激光高反膜残余应力及其形变分析

Residual Stress and Deformation of 1064 nm High Reflection Films for Laser Systems

李阳 1徐均琪 1苏俊宏 1袁松松 1刘祺 1刘政2

作者信息

  • 1. 西安工业大学 陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室,西安 710021
  • 2. 中国科学院西安光学精密机械研究所 先进光学制造技术联合实验室,西安 710119
  • 折叠

摘要

关键词

多层膜/残余应力/等效参考温度/生死单元/应力补偿层/面型

分类

数理科学

引用本文复制引用

李阳,徐均琪,苏俊宏,袁松松,刘祺,刘政..1064nm激光高反膜残余应力及其形变分析[J].表面技术,2022,51(9):311-318,334,9.

基金项目

陕西省国际科技合作与交流计划资助项目(2018KWZ-02) (2018KWZ-02)

西安市智能探视感知重点实验室项目(201805061ZD12CG45) (201805061ZD12CG45)

表面技术

OA北大核心CSTPCD

1001-3660

访问量3
|
下载量0
段落导航相关论文