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4英寸氧化镓单晶生长与性能

穆文祥 贾志泰 陶绪堂

人工晶体学报2022,Vol.51Issue(9):1749-1753,5.
人工晶体学报2022,Vol.51Issue(9):1749-1753,5.

4英寸氧化镓单晶生长与性能

Growth and Properties of 4 Inch β-Ga2 O3 Single Crystal

穆文祥 1贾志泰 1陶绪堂1

作者信息

  • 1. 山东大学晶体材料国家重点实验室,新一代半导体材料研究院,晶体材料研究院,济南 250100
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摘要

关键词

氧化镓/宽禁带半导体/缺陷/晶体生长/导模法/单晶

分类

数理科学

引用本文复制引用

穆文祥,贾志泰,陶绪堂..4英寸氧化镓单晶生长与性能[J].人工晶体学报,2022,51(9):1749-1753,5.

基金项目

广东省重点领域研发计划(2020B010174002) (2020B010174002)

国家自然科学基金(51932004,52002219) (51932004,52002219)

人工晶体学报

OA北大核心CSTPCD

1000-985X

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