红外技术2022，Vol.44Issue(12)：1332-1337,6.
单片晶圆气液混合流清洗技术研究
Study on Dual-Fluid Spray Cleaning Technique for Single-wafer Particle Removal
刘佰红 1段瑜 1杨炜平 2梁翔 1杨丽丽 1杜浩楠 1保加兵 2石春明 1马跃霞 1殷艳娥1
作者信息
- 1. 云南北方奥雷德光电科技股份有限公司,云南 昆明 650223
- 2. 昆明物理研究所,云南 昆明 650223
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摘要
关键词
气液混合流清洗/冲洗时间/移径比/冲洗压力/颗粒去除效率分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
刘佰红,段瑜,杨炜平,梁翔,杨丽丽,杜浩楠,保加兵,石春明,马跃霞,殷艳娥..单片晶圆气液混合流清洗技术研究[J].红外技术,2022,44(12):1332-1337,6.
