表面技术2022，Vol.51Issue(12)：243-254,12.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2022.12.025
集群磁流变抛光加工表面磁轨迹强度建模优化及加工均匀性研究
Modeling Optimization and Uniformity of Cluster Magnetorheological Polishing via Magnetic Trajectory Intensity in Machining Surface
摘要
关键词
磁流变抛光/数值分析/磁轨迹/表面粗糙度/均匀性分类
机械制造引用本文复制引用
阎秋生,梁智镔,潘继生..集群磁流变抛光加工表面磁轨迹强度建模优化及加工均匀性研究[J].表面技术,2022,51(12):243-254,12.基金项目
国家自然科学基金(U1801259,52075102) （U1801259,52075102）
