表面技术2022，Vol.51Issue(12)：277-284,319,9.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2022.12.028
基于稳定pH值的硅衬底晶圆抛光液成分优化
Component Optimization of Polishing Slurry for Silicon Substrate Wafer Based on Stable pH Value
摘要
关键词
抛光液/二氧化硅水溶胶/有机碱/pH缓冲剂/pH稳定剂/抛光去除速率/抛光液寿命/表面粗糙度分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
许宁徽,李薇薇,钱佳,孙运乾..基于稳定pH值的硅衬底晶圆抛光液成分优化[J].表面技术,2022,51(12):277-284,319,9.基金项目
光电信息控制和安全技术重点实验室基金(614210701041705) （614210701041705）
