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基于MZI光开关上应力相移器的制备与性能研究

杨帆 崔岩 王子祥 于昊 梁宇鑫

机电工程技术2022,Vol.51Issue(12):69-72,4.
机电工程技术2022,Vol.51Issue(12):69-72,4.DOI:10.3969/j.issn.1009-9492.2022.12.016

基于MZI光开关上应力相移器的制备与性能研究

Fabrication and Performance of Stress Phase Shifter Based on MZI Optical Switch

杨帆 1崔岩 1王子祥 1于昊 1梁宇鑫2

作者信息

  • 1. 大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室,辽宁大连 116024
  • 2. 重庆联合微电子中心有限责任公司,重庆 400030
  • 折叠

摘要

关键词

应力相移器/PZT薄膜/金属保护层

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

杨帆,崔岩,王子祥,于昊,梁宇鑫..基于MZI光开关上应力相移器的制备与性能研究[J].机电工程技术,2022,51(12):69-72,4.

机电工程技术

1009-9492

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