物理学报2023，Vol.72Issue(3)：107-113,7.DOI:10.7498/aps.72.20221737
不同硫压退火对溅射沉积ZnS薄膜性能的影响
Effect of different sulfur pressure annealing on properties of sputtering-deposited ZnS thin films
摘要
关键词
磁控溅射/硫蒸气退火/ZnS薄膜/慢正电子多普勒展宽能谱引用本文复制引用
党新志,张仁刚,张鹏,于润升,况鹏,曹兴忠,王宝义..不同硫压退火对溅射沉积ZnS薄膜性能的影响[J].物理学报,2023,72(3):107-113,7.基金项目
国家重点研发计划(批准号:2019YFA0210002)和国家自然科学基金(批准号:11975173,11705212)资助的课题. （批准号:2019YFA0210002）
