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外加H2O和H2对氩气介质阻挡放电降解硫酰氟的影响

张晓星周畅伍云健李亚龙高朋张英

高电压技术2023，Vol.49Issue(1)：382-390,9.

高电压技术2023，Vol.49Issue(1)：382-390,9.DOI:10.13336/j.1003-6520.hve.20221026

Effect of Adding H2O and H2 on Degradation of Sulfuryl Fluoride by Argon Dielectric Barrier Discharge

张晓星 ¹周畅 ¹伍云健 ¹李亚龙 ¹高朋 ¹张英²

作者信息

SO2F2降解/介质阻挡放电/外加H2O/外加H2/无害化降解

张晓星,周畅,伍云健,李亚龙,高朋,张英..外加H2O和H2对氩气介质阻挡放电降解硫酰氟的影响[J].高电压技术,2023,49(1):382-390,9.

湖北省自然科学基金(2020CFB166). （2020CFB166）

OA北大核心CSCDCSTPCD

ISSN：1003-6520

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