硅酸盐通报2023，Vol.42Issue(2)：743-750,760,9.
底电极原位退火与沉积温度对PZT薄膜性能影响研究
Influences of In-Situ Annealing and Deposition Temperature of Bottom Electrodes on Properties of PZT Films
摘要
关键词
Pt/Ti底电极/压电薄膜/原位退火/择优取向/介电性能/抗疲劳特性分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
王兴,邹赫麟..底电极原位退火与沉积温度对PZT薄膜性能影响研究[J].硅酸盐通报,2023,42(2):743-750,760,9.基金项目
国家自然科学基金(51775088) （51775088）
山西省科技厅基础研究计划青年基金(202203021212017) （202203021212017）
