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气相助剂辅助绝缘衬底上石墨烯生长:现状与展望

刘若娟 刘冰之 孙靖宇 刘忠范

物理化学学报2023，Vol.39Issue(1)：29-40,12.
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物理化学学报2023，Vol.39Issue(1)：29-40,12.DOI:10.3866/PKU.WHXB202111011

气相助剂辅助绝缘衬底上石墨烯生长:现状与展望

Gaseous-Promotor-Assisted Direct Growth of Graphene on Insulating Substrates:Progress and Prospects

刘若娟 1刘冰之 2孙靖宇 2刘忠范3

作者信息

  • 1. 北京大学纳米化学研究中心,北京分子科学国家研究中心,北京大学化学与分子工程学院,北京100871
  • 2. 北京石墨烯研究院,北京100095
  • 3. 苏州大学能源学院,苏州大学能源与材料创新研究院,苏州大学-北京石墨烯研究院协同创新中心,江苏苏州215006
  • 折叠

摘要

关键词

石墨烯/化学气相沉积/绝缘衬底/气相助剂

分类

化学化工

引用本文复制引用

刘若娟,刘冰之,孙靖宇,刘忠范..气相助剂辅助绝缘衬底上石墨烯生长:现状与展望[J].物理化学学报,2023,39(1):29-40,12.

基金项目

国家重点研发计划项目(2019YFA0708201),国家自然科学基金(61527814,51702225),北京分子科学国家研究中心(BNLMS-CXTD-202001)和北京市科学技术委员会(Z191100000819004)资助 （2019YFA0708201）

物理化学学报

1000-6818

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