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氢、氟原子边缘修饰β-GeSe纳米带的第一性原理研究

程明志 代雪娇 张川川 陆树伟 段海明

原子与分子物理学报2023,Vol.40Issue(3):P.89-95,7.
原子与分子物理学报2023,Vol.40Issue(3):P.89-95,7.DOI:10.19855/j.1000-0364.2023.032004

氢、氟原子边缘修饰β-GeSe纳米带的第一性原理研究

程明志 1代雪娇 1张川川 1陆树伟 1段海明1

作者信息

  • 1. 新疆大学物理科学与技术学院,乌鲁木齐830046
  • 折叠

摘要

关键词

低维材料/一维纳米带/边缘修饰/电子结构/密度泛函理论

分类

数理科学

引用本文复制引用

程明志,代雪娇,张川川,陆树伟,段海明..氢、氟原子边缘修饰β-GeSe纳米带的第一性原理研究[J].原子与分子物理学报,2023,40(3):P.89-95,7.

基金项目

新疆维吾尔自治区自然科学基金(2019D01C038)。 (2019D01C038)

原子与分子物理学报

OA北大核心

1000-0364

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