表面技术2023，Vol.52Issue(3)：181-188,8.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2023.03.015
基底偏压对电弧离子镀制备AlCrVN涂层微结构及力学性能的影响
Influence of Substrate Bias Voltage on Structure and Properties of AlCrVN Coatings Deposited by Cathodic Arc Ion Platings
摘要
关键词
阴极电弧离子镀/AlCrVN涂层/偏压/硬度/耐磨性能分类
矿业与冶金引用本文复制引用
田灿鑫,邹长伟,王泽松,项燕雄,谢伟,李助军,刘怡飞..基底偏压对电弧离子镀制备AlCrVN涂层微结构及力学性能的影响[J].表面技术,2023,52(3):181-188,8.基金项目
广东省自然科学基金面上项目(2020A1515011451) （2020A1515011451）
岭南师范学院人才项目(ZL1931) （ZL1931）
广东省科技特派员项目(GDKTP2021007500) （GDKTP2021007500）
