表面技术2023，Vol.52Issue(3)：338-344,369,8.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2023.03.031
磁控溅射铱薄膜的表面形态与取向演变的控制优化
Control and Optimization of Surface Morphology and Orientation Evolution of Iridium Films Prepared by Magnetron Sputtering
摘要
关键词
磁控溅射/功率/厚度/Ir膜/表面微结构/晶体质量分类
矿业与冶金引用本文复制引用
夏天,黄珂,郑宇亭,陈良贤,刘金龙,魏俊俊,李成明..磁控溅射铱薄膜的表面形态与取向演变的控制优化[J].表面技术,2023,52(3):338-344,369,8.基金项目
国家自然科学基金(11291211) （11291211）
北京市自然科学基金(08910109) （08910109）
