西北师范大学学报（自然科学版）2023，Vol.59Issue(2)：67-71,5.DOI:10.16783/j.cnki.nwnuz.2023.02.011
Al掺杂量和衬底温度对ALD沉积的ZnMgO∶Al薄膜的影响
Effects of substrate temperature and Al doping level on photoelectric properties of ZnMg O∶Al thin films deposited by ALD
摘要
关键词
ZnMgO∶Al/Al掺杂/衬底温度/透明导电薄膜分类
化学化工引用本文复制引用
郭栋豪,唐芝平,邓陈坤,朱文超,周驰宇,谈晓辉..Al掺杂量和衬底温度对ALD沉积的ZnMgO∶Al薄膜的影响[J].西北师范大学学报（自然科学版）,2023,59(2):67-71,5.基金项目
湖南省自然科学基金资助项目(2016JJ3155) （2016JJ3155）
江西理工大学博士科研启动基金项目(205200100346) （205200100346）
大学生创新训练计划项目(DC2021-020) （DC2021-020）
