|国家科技期刊平台
| 注册
首页|期刊导航|物理学报|钝化层对背沟道刻蚀型IGZO薄膜晶体管的影响

钝化层对背沟道刻蚀型IGZO薄膜晶体管的影响

王琛 温盼 彭聪 徐萌 陈龙龙 李喜峰 张建华

物理学报2023，Vol.72Issue(8)：P.296-302,7.
✕
物理学报2023，Vol.72Issue(8)：P.296-302,7.DOI:10.7498/aps.72.20222272

钝化层对背沟道刻蚀型IGZO薄膜晶体管的影响

王琛 1温盼 2彭聪 2徐萌 2陈龙龙 2李喜峰 2张建华2

作者信息

  • 1. 上海大学材料科学与工程学院,上海200444 上海大学,新型显示技术及应用集成教育部重点实验室,上海200072
  • 2. 上海大学,新型显示技术及应用集成教育部重点实验室,上海200072
  • 折叠

摘要

关键词

非晶铟镓锌氧化物/薄膜晶体管/钝化层

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

王琛,温盼,彭聪,徐萌,陈龙龙,李喜峰,张建华..钝化层对背沟道刻蚀型IGZO薄膜晶体管的影响[J].物理学报,2023,72(8):P.296-302,7.

基金项目

国家自然科学基金(批准号:62174105,61674101) （批准号:62174105,61674101）

上海市教育发展基金会和上海市教委(批准号:18SG38)资助的课题. （批准号:18SG38）

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-3290

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文