材料科学与工程学报2023，Vol.41Issue(2)：216-221,329,7.DOI:10.14136/j.cnki.issn1673-2812.2023.02.008
铜箔的不同放置方式导致CVD法生长石墨烯的质量差别
The Placement of Copper Foil Results in the Quality Difference of Graphene Grown by CVD Method
摘要
关键词
铜箔/石墨烯/化学气相沉积法/放置方式/电学性能分类
通用工业技术引用本文复制引用
张文卿,马瑜,付金良,杨军,沈晗睿..铜箔的不同放置方式导致CVD法生长石墨烯的质量差别[J].材料科学与工程学报,2023,41(2):216-221,329,7.基金项目
上海市科学技术委员会创新行动计划资助项目(19511107800) （19511107800）
