西安工程大学学报2023，Vol.37Issue(2)：25-31,7.DOI:10.13338/j.issn.1674-649x.2023.02.004
不同溅射气压下TiN薄膜的制备及其性能
Preparation and properties of TiN films under different sputtering pressure
摘要
关键词
TiN薄膜/磁控溅射/溅射气压/红外发射率分类
矿业与冶金引用本文复制引用
徐洁,高淼,王继允,张旭东,卢琳琳..不同溅射气压下TiN薄膜的制备及其性能[J].西安工程大学学报,2023,37(2):25-31,7.基金项目
陕西省自然科学基础研究-面上项目(2023-JC-YB-476,2023-JC-YB-471) （2023-JC-YB-476,2023-JC-YB-471）
