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基于Cr原子光刻技术的nm光栅间距比对测量定值方法研究

陈凯晴 管钰晴 邹文哲 邓晓 孔明 陈雅晴 熊英凡 傅云霞 雷李华

计量学报2023，Vol.44Issue(5)：671-678,8.
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计量学报2023，Vol.44Issue(5)：671-678,8.DOI:10.3969/j.issn.1000-1158.2023.05.01

基于Cr原子光刻技术的nm光栅间距比对测量定值方法研究

Research on the Method of Nanometer Grating Spacing Comparison Measurement Based on Cr Atomic Lithography Technology

陈凯晴 1管钰晴 2邹文哲 2邓晓 3孔明 4陈雅晴 1熊英凡 3傅云霞 1雷李华1

作者信息

  • 1. 中国计量大学计量测试工程学院,浙江杭州310018||上海市计量测试技术研究院,上海201203||上海市在线检测与控制技术重点实验室,上海201203
  • 2. 上海市计量测试技术研究院,上海201203||上海市在线检测与控制技术重点实验室,上海201203
  • 3. 同济大学物理科学与工程学院,上海200092
  • 4. 中国计量大学计量测试工程学院,浙江杭州310018
  • 折叠

摘要

关键词

计量学/Cr原子光刻技术/比对定值/光栅标准物质/自溯源/扁平化/AFM

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

陈凯晴,管钰晴,邹文哲,邓晓,孔明,陈雅晴,熊英凡,傅云霞,雷李华..基于Cr原子光刻技术的nm光栅间距比对测量定值方法研究[J].计量学报,2023,44(5):671-678,8.

基金项目

上海市优秀学术/技术带头人计划(21XD1425000) （21XD1425000）

计量学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-1158

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