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NH4F浓度对镁合金表面微弧氧化制备氟化物膜层结构和性能的影响

罗兰 彭振军 周健松 梁军

表面技术2023，Vol.52Issue(6)：70-79,10.
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表面技术2023，Vol.52Issue(6)：70-79,10.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2023.06.007

NH4F浓度对镁合金表面微弧氧化制备氟化物膜层结构和性能的影响

Effect of NH4F Concentration on Microstructure and Properties of Fluoride Coatings on Magnesium Alloy by Plasma Electrolytic Oxidation

罗兰 1彭振军 2周健松 1梁军3

作者信息

  • 1. 中国科学院兰州化学物理研究所 中国科学院材料磨损与防护重点实验室,兰州 730000||中国科学院大学 材料与光电研究中心,北京 100049
  • 2. 中国科学院兰州化学物理研究所 固体润滑国家重点实验室,兰州 730000
  • 3. 中国科学院兰州化学物理研究所 固体润滑国家重点实验室,兰州 730000||东莞理工学院 材料科学与工程学院,广东 东莞 523808
  • 折叠

摘要

关键词

镁合金/非水电解液/腐蚀防护

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

罗兰,彭振军,周健松,梁军..NH4F浓度对镁合金表面微弧氧化制备氟化物膜层结构和性能的影响[J].表面技术,2023,52(6):70-79,10.

基金项目

国家自然科学基金(52071325) （52071325）

表面技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-3660

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