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工作气压对管内壁沉积Si/O-DLC薄膜结构与性能的影响

许浩杰陈仁德周广学叶羽敏汪爱英

表面技术2023，Vol.52Issue(6)：439-449,11.

表面技术2023，Vol.52Issue(6)：439-449,11.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2023.06.041

Effect of Working Pressure on Structure and Properties of Si/O-DLC Films Deposited on Inner Wall of the Tube

许浩杰 ¹陈仁德 ²周广学 ²叶羽敏 ³汪爱英²

作者信息

1. 宁波大学材料科学与化学工程学院,浙江宁波 315211||中国科学院宁波材料技术与工程研究所中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室,浙江宁波 315201||中国科学院宁波材料技术与工程研究所浙江省海洋材料与防护技术重点实验室,浙江宁波 315201
2. 中国科学院宁波材料技术与工程研究所中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室,浙江宁波 315201||中国科学院宁波材料技术与工程研究所浙江省海洋材料与防护技术重点实验室,浙江宁波 315201
3. 宁波大学材料科学与化学工程学院,浙江宁波 315211
折叠

工作气压/空心阴极等离子体增强化学气相沉积/管内壁/Si/O-DLC/等离子体放电光学现象/均匀性

矿业与冶金

许浩杰,陈仁德,周广学,叶羽敏,汪爱英..工作气压对管内壁沉积Si/O-DLC薄膜结构与性能的影响[J].表面技术,2023,52(6):439-449,11.

中国科学院-韩国国家科技理事会协议项目(174433KYSB20200021) （174433KYSB20200021）

王宽城率先人才计划卢嘉锡国际团队(GJTD-2019-13) （GJTD-2019-13）

中科院创新团队(292020000008) （292020000008）

OA北大核心CSCDCSTPCD

ISSN：1001-3660

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