首页|期刊导航|人工晶体学报|脉冲偏压及退火处理对电弧离子镀N掺杂TiO_2薄膜结构和性能的影响

脉冲偏压及退火处理对电弧离子镀N掺杂TiO_2薄膜结构和性能的影响

张淑娟黎响陈文亮欧炳蔚李明升

人工晶体学报Issue(S1)：P.335-338,4.

张淑娟 ¹黎响 ¹陈文亮 ¹欧炳蔚 ¹李明升¹

作者信息

电弧离子镀/N掺杂TiO2/脉冲偏压/退火处理/结构和性能

通用工业技术

张淑娟,黎响,陈文亮,欧炳蔚,李明升..脉冲偏压及退火处理对电弧离子镀N掺杂TiO_2薄膜结构和性能的影响[J].人工晶体学报,2009,(S1):P.335-338,4.

江西省自然科学基金项目(No.GJJ08365) （No.GJJ08365）

OA北大核心CSCDCSTPCD

ISSN：1000-985X

访问量4

下载量0

段落导航