硅酸盐学报2023，Vol.51Issue(6)：1374-1380,7.DOI:10.14062/j.issn.0454-5648.20221029
基于金属催化等离子体刻蚀的MPCVD单晶金刚石生长缺陷调控
Control of Defects in MPCVD Single Crystal Diamond Growth Based on Metal Catalyzed Plasma Etching
摘要
关键词
微波等离子体化学气相沉积/单晶金刚石/横向外延/缺陷调控Key words
microwave plasma chemical vapor deposition/single crystal diamond/lateral epitaxy/defect control分类
化学化工引用本文复制引用
李一村,文东岳,郝晓斌,代兵,刘本建,朱嘉琦,韩杰才..基于金属催化等离子体刻蚀的MPCVD单晶金刚石生长缺陷调控[J].硅酸盐学报,2023,51(6):1374-1380,7.基金项目
国家自然科学基金(52072087) （52072087）
黑龙江省自然科学基金(YQ2020E008)资助. （YQ2020E008）
