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物理气相传输法SiC衬底上生长AlN单晶的研究进展

朱亚军 王国栋 俞瑞仙 曹文豪 王守志 胡小波 徐现刚 张雷

硅酸盐学报2023,Vol.51Issue(6):1439-1449,11.
硅酸盐学报2023,Vol.51Issue(6):1439-1449,11.DOI:10.14062/j.issn.0454-5648.20220704

物理气相传输法SiC衬底上生长AlN单晶的研究进展

Research Progress on AlN Single Crystal Growth on SiC Substrate by Physical Vapor Transport Method

朱亚军 1王国栋 1俞瑞仙 1曹文豪 1王守志 1胡小波 1徐现刚 1张雷1

作者信息

  • 1. 山东大学,新一代半导体材料研究院,晶体材料国家重点实验室,济南 250100
  • 折叠

摘要

关键词

氮化铝单晶/碳化硅衬底/物理气相传输法/异质外延

Key words

aluminum nitride single crystal/silicon carbide substrate/physical phase transport/heteroepitaxy

引用本文复制引用

朱亚军,王国栋,俞瑞仙,曹文豪,王守志,胡小波,徐现刚,张雷..物理气相传输法SiC衬底上生长AlN单晶的研究进展[J].硅酸盐学报,2023,51(6):1439-1449,11.

基金项目

山东省自然科学基金(ZR2022QF044) (ZR2022QF044)

国家自然科学基金(51872164,52202265). (51872164,52202265)

硅酸盐学报

OACSCD

0454-5648

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