现代电子技术2023，Vol.46Issue(15)：140-146,7.DOI:10.16652/j.issn.1004-373x.2023.15.025
扫描白光干涉技术在硅片检焦过程中的应用
Application of scanning white light interferometry in process of silicon wafer focusing
摘要
关键词
检焦/最佳焦面/清晰度/扫描白光干涉/零光程差/硅片/垂向距离补偿量/工艺适应性Key words
focus detection/optimal focal plane/sharpness/scanning white light interference/zero optical path difference/silicon wafer/vertical distance compensation/process adaptability分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
李旺,张文涛,杜浩,熊显名..扫描白光干涉技术在硅片检焦过程中的应用[J].现代电子技术,2023,46(15):140-146,7.基金项目
国家科技重大专项子课题(2017ZX02101007-003) （2017ZX02101007-003）
国家自然科学基金项目(61965005) （61965005）
国家自然科学基金项目(62205076) （62205076）
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