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基片温度对电子束蒸发沉积碳化硼薄膜性能的影响

范强 廖志君 杨水长 刘振良 伍登学 卢铁城

人工晶体学报Issue(S1):P.44-47,4.
人工晶体学报Issue(S1):P.44-47,4.

基片温度对电子束蒸发沉积碳化硼薄膜性能的影响

范强 1廖志君 1杨水长 1刘振良 1伍登学 1卢铁城2

作者信息

  • 1. 四川大学物理系辐射物理及技术教育部重点实验室,成都610064
  • 2. 四川大学物理系辐射物理及技术教育部重点实验室,成都610064 中国科学院国际材料物理中心,沈阳110015
  • 折叠

摘要

关键词

碳化硼薄膜/电子束蒸发/基片温度/粗糙度

分类

数理科学

引用本文复制引用

范强,廖志君,杨水长,刘振良,伍登学,卢铁城..基片温度对电子束蒸发沉积碳化硼薄膜性能的影响[J].人工晶体学报,2009,(S1):P.44-47,4.

基金项目

国家863计划课题项目(No.2007AA804406) (No.2007AA804406)

人工晶体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-985X

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