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单晶Si_3N_4纳米带可控Al掺杂研究

高凤梅尉国栋王华涛谢志鹏张立功范翊罗劲松安立楠杨为佑

人工晶体学报Issue(S1)：P.181-185,5.

高凤梅 ¹尉国栋 ¹王华涛 ²谢志鹏 ²张立功 ³范翊 ³罗劲松 ³安立楠 ⁴杨为佑¹

作者信息

1. 宁波工程学院材料所,宁波315016
2. 清华大学材料系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室,北京100081
3. 中国科学院激发态物理重点实验室,长春130033
4. Advanced Materials Processing and Analysis Center,University of Central Florida,orlandousa32826
折叠

有机前驱体/热解/氮化硅/纳米带/掺杂

通用工业技术

高凤梅,尉国栋,王华涛,谢志鹏,张立功,范翊,罗劲松,安立楠,杨为佑..单晶Si_3N_4纳米带可控Al掺杂研究[J].人工晶体学报,2009,(S1):P.181-185,5.

国家自然科学基金(No.50872058) （No.50872058）

宁波市国际合作项目(No.2008B10044) （No.2008B10044）

宁波市自然科学基金(No.2009A610035) （No.2009A610035）

OA北大核心CSCDCSTPCD

ISSN：1000-985X

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