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平面显示用钼及钼合金溅射靶材的专利现状分析

宫溢超赵虎梁靖王彩霞张家晨张国君

中国钼业2023，Vol.47Issue(4)：1-7,7.

中国钼业2023，Vol.47Issue(4)：1-7,7.DOI:10.13384/j.cnki.cmi.1006-2602.2023.04.001

Patent Analysis of Molybdenum and Molybdenum Alloy Sputtering Target for Planar Display

宫溢超 ¹赵虎 ²梁靖 ²王彩霞 ¹张家晨 ¹张国君¹

作者信息

钼及钼合金/溅射靶材/专利分析

molybdenum and molybdenum alloy/sputtering target/patent analysis

矿业与冶金

宫溢超,赵虎,梁靖,王彩霞,张家晨,张国君..平面显示用钼及钼合金溅射靶材的专利现状分析[J].中国钼业,2023,47(4):1-7,7.

秦创原"科学家+工程师"项目(编号:2022KXJ-161) （编号:2022KXJ-161）

OACSTPCD

ISSN：1006-2602

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