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MOCVD生长AlN单晶薄膜的气相和表面化学反应综述

何晓崐 刘锐 薛园 左然

化工学报2023，Vol.47Issue(7)：2800-2813,14.
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化工学报2023，Vol.47Issue(7)：2800-2813,14.DOI:10.11949/0438-1157.20230380

MOCVD生长AlN单晶薄膜的气相和表面化学反应综述

Review of gas phase and surface reactions in AlN MOCVD

何晓崐 1刘锐 1薛园 2左然3

作者信息

  • 1. 江苏科技大学苏州理工学院,江苏 张家港 215600
  • 2. 欧柏林学院化学与生物化学系,美国 俄亥俄 欧柏林 44074
  • 3. 江苏大学能源与动力工程学院,江苏 镇江 212013
  • 折叠

摘要

关键词

AlN/MOCVD/化学反应/自由基/计算流体力学/计算化学

Key words

AlN/MOCVD/chemical reaction/radical/computational fluid dynamics/computational chemistry

分类

化学化工

引用本文复制引用

何晓崐,刘锐,薛园,左然..MOCVD生长AlN单晶薄膜的气相和表面化学反应综述[J].化工学报,2023,47(7):2800-2813,14.

基金项目

国家自然科学基金项目(61474058) （61474058）

化工学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

0438-1157

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