|国家科技期刊平台
| 注册
首页|期刊导航|光学精密工程|磁场及靶基距对CrAlN薄膜性能的影响

磁场及靶基距对CrAlN薄膜性能的影响

郑锦华 梅诗阳 李志雄 刘青云

光学精密工程2023，Vol.31Issue(18)：2627-2635,9.
✕
光学精密工程2023，Vol.31Issue(18)：2627-2635,9.DOI:10.37188/OPE.20233118.2627

磁场及靶基距对CrAlN薄膜性能的影响

Effect of magnetic field and target-substrate distance on properties of CrAlN films

郑锦华 1梅诗阳 2李志雄 2刘青云3

作者信息

  • 1. 郑州大学 机械与动力工程学院热能系统节能技术与装备教育部工程研究中心,河南 郑州 450001||河南晶华膜技真空科技有限公司,河南 焦作 454150
  • 2. 郑州大学 机械与动力工程学院热能系统节能技术与装备教育部工程研究中心,河南 郑州 450001
  • 3. 中国原子能科学研究院,北京 102413
  • 折叠

摘要

关键词

磁场/靶基距/液滴/结合力/磨损率

Key words

magnetic field/target-substrate distance/droplet/binding force/wear rate

分类

金属材料

引用本文复制引用

郑锦华,梅诗阳,李志雄,刘青云..磁场及靶基距对CrAlN薄膜性能的影响[J].光学精密工程,2023,31(18):2627-2635,9.

基金项目

焦作市创新创业领军团队资助项目(No.2019TD007) （No.2019TD007）

河南省"百人计划"资助项目(豫人才办[2015]4号) （豫人才办[2015]4号）

光学精密工程

OACSTPCD

1004-924X

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文