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基于从头算分子动力学的金属/氧化物-水界面能带排列

庄永斌 程俊

电化学2023,Vol.29Issue(7):21-29,9.
电化学2023,Vol.29Issue(7):21-29,9.DOI:10.13208/j.electrochem.2216001

基于从头算分子动力学的金属/氧化物-水界面能带排列

Band Alignments of Metal/Oxides-Water Interfaces Using Ab Initio Molecular Dynamics

庄永斌 1程俊1

作者信息

  • 1. 固体表面物理化学国家重点实验室,厦门大学能源材料化学协同创新中心,厦门大学化学化工学院,福建 厦门 361005
  • 折叠

摘要

关键词

能带排列/金属-水界面/氧化物-水界面/从头算分子动力学

Key words

Scanning tunneling microscopy/Electrochemistry/Copper electrodeposition/Underpotential deposition

引用本文复制引用

庄永斌,程俊..基于从头算分子动力学的金属/氧化物-水界面能带排列[J].电化学,2023,29(7):21-29,9.

基金项目

国家自然科学基金项目(No.22021001,No.21991151,No.21991150)资助 (No.22021001,No.21991151,No.21991150)

电化学

OA北大核心CSTPCD

1006-3471

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