电化学2023，Vol.29Issue(7)：30-35,6.DOI:10.13208/j.electrochem.2216003
电化学扫描隧道显微术:以Cu在Au(111)表面初始阶段电沉积为例
Electrochemical Scanning Tunneling Microscopy:Taking the Initial Stage of Cu Electrodeposition on Au(111)as an Example
谭卓 1李凯旋 1毛秉伟 1颜佳伟1
作者信息
- 1. 厦门大学化学化工学院,固体表面物理化学国家重点实验室,福建 厦门 361005
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摘要
关键词
扫描隧道显微术/电化学/铜电沉积/欠电位沉积Key words
Scanning Tunneling Microscopy/Electrochemistry/Copper Electrodeposition/Underpotential Deposition引用本文复制引用
谭卓,李凯旋,毛秉伟,颜佳伟..电化学扫描隧道显微术:以Cu在Au(111)表面初始阶段电沉积为例[J].电化学,2023,29(7):30-35,6.
