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碳化硅外延设备干扰问题与解决方案

高桑田 毛朝斌 戴科峰 盛飞龙 王鑫 仇礼钦 梁启恒

机电工程技术2023,Vol.52Issue(8):280-283,4.
机电工程技术2023,Vol.52Issue(8):280-283,4.DOI:10.3969/j.issn.1009-9492.2023.08.059

碳化硅外延设备干扰问题与解决方案

Interference Problem and Solution of Silicon Carbide Epitaxial Equipment

高桑田 1毛朝斌 1戴科峰 1盛飞龙 1王鑫 1仇礼钦 1梁启恒1

作者信息

  • 1. 季华实验室,广东佛山 528200
  • 折叠

摘要

关键词

SiC外延设备/电磁干扰/抗干扰/PLC控制系统

Key words

SiC epitaxy equipment/electromagnetic interference/anti-interference/PLC control system

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

高桑田,毛朝斌,戴科峰,盛飞龙,王鑫,仇礼钦,梁启恒..碳化硅外延设备干扰问题与解决方案[J].机电工程技术,2023,52(8):280-283,4.

基金项目

季华实验室项目(X210241TC210) (X210241TC210)

机电工程技术

1009-9492

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