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掩膜电化学沉积缺陷去除数值分析及实验研究

吴传冬 张彦 蔡康捷 赵涵涛 方成刚

机械制造与自动化2023,Vol.52Issue(5):P.108-110,114,4.
机械制造与自动化2023,Vol.52Issue(5):P.108-110,114,4.

掩膜电化学沉积缺陷去除数值分析及实验研究

吴传冬 1张彦 1蔡康捷 1赵涵涛 1方成刚1

作者信息

  • 1. 南京工业大学机械与动力工程学院,江苏南京211899
  • 折叠

摘要

关键词

数值分析/掩膜电化学沉积/缺陷去除/微柱

分类

机械制造

引用本文复制引用

吴传冬,张彦,蔡康捷,赵涵涛,方成刚..掩膜电化学沉积缺陷去除数值分析及实验研究[J].机械制造与自动化,2023,52(5):P.108-110,114,4.

机械制造与自动化

OACSTPCD

1671-5276

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